scia Systems entwickelt und fertigt Vakuumprozesssysteme mit Plasma- und Ionenstrahltechnologien für die ultra-präzise Oberflächenbearbeitung. Kunden sind Unternehmen und Forschungseinrichtungen vor allem aus den Bereichen Mikroelektronik, MEMS und Präzisionsoptikfertigung.
Die scia Coat 200 wurde zur homogenen Beschichtung von 200 mm Substraten, wie zum Beispiel Wafern, mittels dualer Ionenstrahlabscheidung entwickelt. Typische Anwendungen sind Mehrlagenbeschichtungen für magnetische Sensoren und optische Beschichtungen. Der fokussierte Strahl einer Ionenstrahlquelle trifft auf ein Sputtertarget. Mit dem davon abgetragenen Material wird das Substrat beschichtet. Das Funktionsmodell gibt einen plastischen Einblick in den komplexen Herstellungsprozess.
